サービス一覧

ここでは、弊社が提供しているサービスをご紹介します。

光輝焼鈍

無酸化雰囲気中（真空炉、不活性ガス雰囲気炉等）に加熱保持→炉冷を行い、処理前と同等の光輝性のある外観に仕上げる。

磁気焼鈍

強磁性体としての性質を利用して様々な機能を実現するために用いられる材料。

１）軟磁性材料

保持力が小さく透磁率が大きい事を特徴とする材料。コイルやトランス等の磁芯、磁気ヨーク、磁気シールド等に用いられる(パーマロイ、ケイ素鉄、純鉄等）磁気焼鈍は、水素ガス雰囲気炉、真空炉等で、パーマロイは1000～1200℃、ケイ素鉄は９００～９５０℃、純鉄類は８００～９５０℃で一般に処理される。

２）硬磁性材料

保持力が大きい事を特徴とする材料。永久磁石として用いられる（アルニコ磁石、フェライト磁石、サマリウムコバルト磁石等）（硬磁性材料は磁気焼鈍は行わない）

析出硬化

高温から急冷し、一種以上の化合物を含む過飽和固溶体を生成保持し（溶体化処理）以降、比較的低温（適切温度）に加熱し硬化する。

応力除去焼鈍

材料及び部品類の加工により、外力に対し発生する内部応力を、後に発生する歪、変形、割れ等を防止するための焼鈍（鉄鋼類：６００～７００℃）

固溶化

合金は、一般に温度が高くなると基本金属に加える合金元素は溶け込み易くなる。合金固有の温度に加熱した後急冷すると、低温では析出するはずの合金元素が固溶（溶け込み）したままとなる。この現象を言う。

真空浸炭焼入れ

真空熱処理は真空下で加熱するため酸化、脱炭が少なく光輝性もすぐれる。アセチレンガスの導入によりスーチングが少なく、比較的美麗である（ライトケースにも適する）冷却は高圧窒素ガスによる加圧冷却が行われるため冷却速度が速い。

高周波焼入れ

金属に高周波の電磁波による電磁誘導を起し、表面を加熱させて熱処理を行う方法。金属表面のみを硬化させて硬さを増し、内部は靱性を保った元の状態を保つことで、柔軟性に富んだ材料にすることが出来る。

窒化

電気炉の中の被処理品の入った窒化ケースにアンモニアガスを投入し、５００～５５０℃に加熱する。アンモニアガスから乖離した原子状の窒素が鋼の表面から内部に拡散浸入する。鋼内部に存在するアルミニウム、クロム、モリブデン等の元素が窒素と結合し、硬い窒化合物をからなる窒化層を形成する。

軟窒化

１）ガス軟窒化

被処理品をトレイに入れ、窒化性ガスと浸炭性ガスとの混合ガスを炉中に送り込み５７０～５８０℃に１～５hr保持する。処理品の表面にスマットが着かず美麗に仕上がる。

２）塩浴軟窒化

NaCN、KCNO等の混合溶融塩（５７０～５８０℃）バスケットに入れた被処理品を浸漬処理する。処理品の表面層にはスマットが付着するが、軟窒化層のバラつきは少ない。軟窒化層は比較的薄い（０。０１～０。０２mm）ため軽負荷向き。

光輝ロー付け

真空炉によりロー付けを行う事により、歪が少なく、精度が良い、又、フラックスを使用しないので汚染が無く環境に良い。処理品は腐食も無く、接合部に気泡がすくないため後処理の必要性がない。特殊な材料や異種材料の接合が出来る。

ベーキング

水素脆性は、高炭素鋼や、熱処理又は冷間加工などにより表面硬化された鉄鋼素材に入り易い。メッキ工程中では酸洗、陰極電解洗浄・酸洗、アルカリ亜鉛メッキ浴のように水素と共析するようなメッキ浴で多く発生する。除去方法として加熱する事により吸蔵された水素を放出させる。鉄鋼部品では１９０～２２０℃、表面硬化品では１３０～１５０℃で処理される。

無酸化焼入れ

還元性ガスや不活性ガスを使用した雰囲気炉により熱処理を行う技術で、被加工品の表面を酸化させる事なく熱処理が可能。被加工品の表面は、真空炉で処理した物に比べ光輝性に劣るが、実用上支障ないもの。